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德州仪器推出业界首款片上电容式数字隔离器(图)

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发表于 2011-3-11 09:30:41 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式
  更快速、更强抗磁干扰能力具备高可靠性,可实现更高的系统性价比  日前,德州仪器(TI)宣布推出系列高性能数字隔离器,该产品集成的片上电容可实现更快速的数据传输和更高的信号完整性。这些电容式隔离器凭借其高度的可靠性和最快的数据传输速率居业界领先水平,其抗磁干扰能力比现有电感器器件至少提高106倍,且功耗较高性能光学耦合器降低了60%(更多详情,敬请参见:www.ti.com/iso721-pr)。新型的隔离器拥有极高的性价比,非常适用于工厂自动化、过程控制以及数据采集系统等有干扰的高电压应用领域。  TI负责高性能线性的副总裁Art George指出:“ISO721与ISO721M利用固有的电容器特性并充分发挥TI技术的优势,实现了强大的抗磁干扰(magnetIC noise source)能力。这使我们能将高速数据传输与工业级可靠性要求进行完美结合,充分满足工业隔离应用在性能与使用寿命等方面的高要求。”  ISO721与ISO721M具备高性能数据传输和电路保护功能,可实现高达560伏的工作电压隔离,或承受4000伏的瞬态峰值过压。ISO721M适用于要求快速传输数字数据且系统关联噪声较低的应用领域。而ISO721灵活性更高、稳定性更强,适用于在有干扰的环境下传输数据。上述器件符合美国保险商实验室(UL 1577)、国际电工委员会(IEC 60747-5-2)以及加拿大标准协会(CSA Component ACCeptance Notice 5A)制定的有关隔离器标准。  TI隔离器采用片上高电压电容器,可将数据传输速度提高三倍,而功耗低于通用的高性能光耦合器。此外,对常发生于工业环境且会损坏信号完整性的外部磁场,TI电容技术还具备卓越的抗电磁干扰的能力。该器件还能避免因电压快速瞬变造成的数据失真,最小保护水平为电压瞬变率为25KV/us时数据无失真。  TI隔离器采用半导体级二氧化硅电介质,这种稳定的高性能绝缘体具有高度的可靠性和耐用性,而这正是工业应用的关键要求,因为在工业应用环境下,不提供足够的保护,电压冲击就很可能影响器件的使用寿命。在典型的工作电压条件下,该器件的预期使用寿命一般超过25年。  ISO721的其它关键特性内置噪声滤波器,TTL输入电平接口,速率高达100Mbps低传输延迟:17ns(典型) 低抖动:2ns(典型)工作电压:3V或5V  ISO721M的其它关键特性无内置噪声滤波器,CMOS输入电平兼容:速率高达150Mbps低传输延迟:10ns(典型)低抖动:1ns(典型)工作电压:3V或5V  TI面向工业应用推出了种类繁多的IC芯片,ISO721与ISO721M作为新增成员进一步壮大了这一阵营,其它产品包括TMS320C2000TM DSP平台、RS-485收发器(HVD33)、Chipcon系列低功耗无线收发器IC、隔离式DC/DC转换器(DCP010507DB)、MSP430超低功耗微控制器、CAN收发器,以及高精度放大器和数据转换器(ADS1203)等。如欲了解有关TI接口产品的更多详情,敬请参见以下网站上的《接口选择指南》:interface.ti.com。  供货情况  ISO721与ISO721M器件采用8引脚小外形IC(SOIC)封装,现已开始供货,目前可通过TI及其授权分销商进行订购,批量为1,000件时单价为1.65美元。评估板也已同步上市。
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